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退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究

高倩倩 刘正堂 冯丽萍 田浩

高倩倩, 刘正堂, 冯丽萍, 田浩. 退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究[J]. 机械科学与技术, 2013, 32(1): 51-53.
引用本文: 高倩倩, 刘正堂, 冯丽萍, 田浩. 退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究[J]. 机械科学与技术, 2013, 32(1): 51-53.
Gao Qianqian, Liu Zhengtang, Feng Liping, Tian Hao. Effect of Annealing Time on Properties of Cu-Al-O Thin Film[J]. Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering, 2013, 32(1): 51-53.
Citation: Gao Qianqian, Liu Zhengtang, Feng Liping, Tian Hao. Effect of Annealing Time on Properties of Cu-Al-O Thin Film[J]. Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering, 2013, 32(1): 51-53.

退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究

基金项目: 

航空科学基金项目(2008ZF53058)

凝固技术国家重点实验室(NWPU)(58-TZ-2011)资助

详细信息
    作者简介:

    高倩倩(1986-),硕士研究生,研究方向为薄膜制备与性能研究,elegance268@163.com;刘正堂,教授,硕士,liuzht@nwpu.edu.cn

    高倩倩(1986-),硕士研究生,研究方向为薄膜制备与性能研究,elegance268@163.com;刘正堂,教授,硕士,liuzht@nwpu.edu.cn

Effect of Annealing Time on Properties of Cu-Al-O Thin Film

  • 摘要: 通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究结果表明:随着退火时间的增加,薄膜开始晶化,5.0 h时薄膜中出现裂纹,同时出现AlCu合金相;紫外-可见透过率随退火时间的增加而降低;中红外透过率随退火时间的增加先增加后降低;Cu-Al-O薄膜的直接带隙随退火时间的增加而降低。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-02-23

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